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1. ENMX06 고이송용 밀링 인서트 TEST

1) 사용 장비.

* 두산 DNM 4500 [ 4.5호기, 450X800, MAX PRM 12,000 ]

2) 적용 인서트 및 홀더.

* 적용 인서트 : ENMX0604 TR YG713

* 적용 홀더 : 21파이 / 3F / 전장 150mm

3) 가공물

* 기계 장비 부품.

4) 가공 소재.

* S45C

5) 척, 콜렛

* BT40 / 밀링척

6) RPM

* 2,200

7) FEED

* 2,000

8) 절입량

* Ae(X-Y축 측면 절입) : 21mm

* Ap(Z 축 측면 절입) : 0.5mm

9) 가공 방식

* 헬리컬 램핑가공 / 가공 반경 60파이 / 헬리컬 램핑각도 : 3도 / 총 가공 깊이 : 36mm

10) 참고 내용

대략적인 가공에 대한 내용

가. 21파이로 60파이의 가장자리를 가공하고 난 후 엔드밀로 마무리 가공을 진행하여 떼어냄.

업체에서 기존에 적용 중 T사 BLMP06

나. YG-1 'ENMX06'나 T사의 'BLMP06' 같은 경우 위의 사진에서 빨간색으로 표시된 부분이 램핑 가공이나 헬리컬 램핑 가공 등  가공 깊이가 깊어질수록 칩배출이 잘 안 되어 칩에 의한 문제가 발생할 수 있음.

원활한 칩배출을 위해 13파이 드릴로 홀 가공 후 ENMX06로 헬리컬 램핑 가공 진행.

다. 해당 업체에선 원활한 칩배출을 위해 13파이 드릴로 홀 가공 후 ENMX06으로 헬리컬 램핑 가공을 진행.

라. 13파이 홀로 인해 단속 구간이 발생하지만, 가공 깊이가 깊어질수록 칩배출 공간이 확보되어 칩에 의한 문제를 최소화할 수 있음.

 11) 업체 의견.

가. 동일한 가공 조건에서 현재 적용 중인 T사 BLMP0603 R-M TT9080(21파이 / 3F / 전장 150mm 비메이커 홀더) 대비 동등한 성능을 보임.

나. 와이지원 APKT도 적용 중에 있으며, S45C 가공에 YG713 재종이 양호한 것 같음.

다. 가격 대비 성능 양호.

2. ENMX06 소개.

1) ENMX06 콘셉트.

* 형상 황삭 가공(고이송용)

* 인서트 1개당 4코너 적용.

2) ENMX06 홀더.

2) ENMX06 인서트.

3) 와이지원(YG-1) 밀링 인서트 칩브레이커 특징.

4) 와이지원(YG-1) 밀링 인서트 재종 특징.

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